| 品牌 | 昊量光電 | 產(chǎn)地類別 | 進口 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
H9/H9M 白光干涉表面輪廓儀

Heliotis H9/H9M 均為工業(yè)級白光干涉(WLI)3D 表面輪廓儀,基于低相干寬帶光在零光程差附近形成高對比度條紋,通過 Z 軸掃描與像素級相干峰 / 相位解包裹重構(gòu) 3D 形貌,實現(xiàn)非接觸、納米級精度測量。H9/H9M 白光干涉表面輪廓儀
HeliInspect™ H9 結(jié)合了大型測量場和高高度分辨率。其堅固設(shè)計、長工作距離和靈活的軟件集成使其成為大型組件串聯(lián)測試的理想解決方案,涵蓋在線、在線和離線。
對于那些常規(guī)傳感器已無法滿足需求的應(yīng)用場景,heliInspect™ H9 和 H9M 能憑借的亞微米級高度分辨率脫穎而出。這些屬于行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)級別的白光干涉儀之所以,是因為它們采用了 Heliotis 的下一代 3D 像素傳感器 heliSens™ S4 和 S4M。
白光干涉儀H9/H9M應(yīng)用場景:
半導(dǎo)體:芯片鍵合、TSV、微凸點、再分布層(RDL)共面度、薄膜厚度。
MEMS:微結(jié)構(gòu)、諧振器、封裝共面度、高深寬比結(jié)構(gòu)形貌。
光學(xué)元件:鏡片、棱鏡、光柵、晶圓表面面形與粗糙度。
精密制造:刀具、模具、涂層厚度與均勻性、微流控芯片。
醫(yī)療:植入物表面、生物組織形貌、微流控芯片結(jié)構(gòu)。
白光干涉儀H9/H9M產(chǎn)品特點:
測量能力得到提升:
具有真正亞微米級精度的高度測量
歷史性的測量速度
在給定視場內(nèi) x、y 方向的分辨率更高
更高的場景內(nèi)動態(tài)范圍
大量的光學(xué)放大倍數(shù)
集成操作就像使用二維攝像機一樣簡單:
標(biāo)準(zhǔn) GenCAM 接口
攝像機內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)功能服務(wù)
白光干涉儀H9/H9M技術(shù)特性與優(yōu)勢:
非接觸無損:適配軟 / 脆 / 高反 / 透明 / 低反樣品,無損傷風(fēng)險。
高精度與高速兼顧:H9≈0.3 s,相位模式亞納米精度,滿足研發(fā)與產(chǎn)線需求。
大行程與高動態(tài):40 mm 行程覆蓋大臺階;高動態(tài)范圍適配高低反射并存表面。
抗振魯棒:工業(yè)級設(shè)計,適合實驗室與產(chǎn)線在線檢測。
自動化與易用性:自動對焦 / 尋紋 / 拼接,多區(qū)域批量測量,降低操作門檻。
軟件分析:自動計算高度、粗糙度、體積、角度等參數(shù),支持報表導(dǎo)出(Word/Excel/PDF)。
型號定位與核心差異:
H9:標(biāo)準(zhǔn)工業(yè)級,H8的性能升級,相位模式≤0.05 nm,單幀≈0.3 s,抗振更強,適合超精密研發(fā)與嚴(yán)苛產(chǎn)線。
H9M:H9 的 “高動態(tài) / 多波長" 版,低反 / 透明樣品測量更穩(wěn),速度與精度兼顧。
多種視野范圍,兩種工作間距:
靈活的鏡頭選擇功能使得能夠根據(jù)不同的部件尺寸和需求進行調(diào)整。
| 0.5× | 0.8× | 1× | 1.5× | 2× | 3× | |
| Field of view [mm × mm] | 24.6 × 26.1 | 15.4 × 16.3 | 12.3 × 13.1 | 8.2 × 8.7 | 6.1 × 6.5 | 0.26 × 0.2 |
| Optical resolution [µm] – H9 | 48 | 30 | 24 | 16 | 12 | 8 |
| Optical resolution [µm] – H9M | 24 | 15 | 12 | 18 | 6 | 4(*) |
| Working distance [mm] – Standard | 51 | 51 | 51 | 51 | 49 | 49 |
| Working distance [mm] – Long | 113 | 113 | 113 | 110 | ||
| Numerical aperture – Standard | 0.033 | 0.053 | 0.067 | 0.10 | 0.13 | 0.15 |
| Numerical aperture – Long | 0.033 | 0.053 | 0.067 | 0.11 |
白光干涉儀H9/H9M產(chǎn)品參數(shù):

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